專利是法律對一項具有心意創(chuàng)造的保護，而申請專利保護是一項很有效果的措施，對于技術(shù)生產(chǎn)業(yè)務(wù)為主的公司，專利相當(dāng)于公司的核心，但在申請專利的過程中是存在很多誤區(qū)的，那么專利申請的常見誤區(qū)應(yīng)該如何規(guī)避?

據(jù)數(shù)據(jù)統(tǒng)計，很多專利申請每年只有百分之十投入了使用中，剩下的都沒有獲得有效的規(guī)范性管理和使用，特別是對于一些企業(yè)，如果不能合理運用所有的專利，那么這樣的申請是沒意義的。

申請專利前進行文獻檢索，這不僅可以提升專利申請成功率，還能減少審核人員工作量。專利檢索的目的主要就是避免發(fā)明人重復(fù)研究的問題，本著專利新穎的原則，一件事物事先已經(jīng)出現(xiàn)過，發(fā)明人將其申請為專利很難成功。

一些專利申請持有人認為，在申請一項或多項專利后，他們總是可以獲得保護，而忽略隨后的研發(fā)后續(xù)工作。這種一勞永逸的想法將限制專利的延伸和保護。特別是，如果他人對專利產(chǎn)品進行改進并獲得專利授權(quán)，原始專利的價值將受到影響，甚至原始專利權(quán)人也將成為侵權(quán)人。

許多專利持有人認為，只有在實際產(chǎn)品或工藝流程投入生產(chǎn)的情況下，才能申請專利。這是由于對專利申請保護認識不足造成的。特別是，在產(chǎn)品或工藝理念被暴露后，然后申請專利，即使該專利被授權(quán)，侵權(quán)人也會以該技術(shù)在專利申請之日已經(jīng)被暴露為由進行抗辯，并且一些專利是無效的，因為這種創(chuàng)造性或設(shè)計性產(chǎn)品是預(yù)先暴露的。

事實上，只要一項專利有實際的想法，甚至只有符合專利授權(quán)三要素的設(shè)計圖或想法，它就可以申請。它不僅可以獲得專利保護，而且占據(jù)地位。更重要的是，投入成本也是低的。

即使獲得了專利證書，也不意味著專利權(quán)實際上是所有的，這一點很容易被許多人忽視。由于沒有對實用新型和外觀設(shè)計專利進行實質(zhì)性審查，即使有人在申請前就同一技術(shù)方案申請了同一專利，申請仍可能獲得批準，也就是說，可以獲得證書。如果沒有異議，你的專利權(quán)將被保留。一旦有人宣布你的專利無效，你的專利就可能失效并失去專利權(quán)。

因此，在獲得專利證書后，一個人不能放松，特別是在支付年費以保持其有效性后。專利不同于商標，因為它們需要支付年費。如果錯過期限，該專利將無效。

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